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半導体デバイスにおける洗浄技術と歩留改善のための効果的な汚染制御技術

汚染が半導体デバイスに与える影響、各種洗浄液と洗浄メカニズム、新洗浄乾燥技術

イベント概要

・デバイスの品質向上に不可欠な洗浄技術を基礎から修得し、歩留を向上させるための講座
・最近の洗浄技術や汚染制御技術、さらに新しい乾燥技術を修得し、高品質なデバイス開発へ活かそう!

開催日時 2019/10/07 (月) 10:30 ~ 17:30
会場

新宿区西新宿2-7-1 小田急第一生命ビル22F (東京都)

会場住所 163-0722 東京都新宿区西新宿2-7-1 小田急第一生命ビル22F
料金 49,500円
定員 20人
Webページ http://www.j-techno.co.jp/
ジャンル 組み込み & RFID+IC
タグ

洗浄 金属汚染 ナノパーティクル 分子汚染 モニタリング技術 RCA洗浄 洗浄液 汚染制御技術 洗浄乾燥